1月3日消息,據國外媒體報道,在芯片制造工藝方面,為蘋(píng)果、華為等制造芯片的臺積電近幾年走在行業(yè)的前列,率先量產(chǎn)了7nm工藝,更先進(jìn)的5nm工藝預計在今年一季度投產(chǎn)。
但在下一代的3nm芯片制造工藝方面,臺積電可能會(huì )有來(lái)自三星的挑戰,后者擬率先使用這一先進(jìn)的工藝制造芯片。
外媒是在三星電子實(shí)際領(lǐng)導人李在镕參觀(guān)韓國京畿道華城的半導體研發(fā)中心的報道中,透露三星擬率先量產(chǎn)3nm工藝的,在當地時(shí)間周四的這一次參觀(guān)中,李在镕他們討論了成為全球首個(gè)利用3nm工藝制造芯片的戰略。
從外媒的報道來(lái)看,三星電子的3nm制程工藝,將采用GAA架構,這一架構也是目前FinFET技術(shù)的繼任者,能使芯片制造商發(fā)展到微芯片的工藝范圍。
在3nm的工藝量產(chǎn)之前,三星還需要量產(chǎn)5nm工藝,三星在去年4月份完成了基于EUV技術(shù)的5nm FinFET制程技術(shù)的研發(fā),預計在今年上半年能夠大規模量產(chǎn)。
三星方面表示,同5nm制程工藝相比,3nm GAA技術(shù)能使芯片的理論面積縮小35%,能耗則能降低50%,性能則會(huì )提高30%。
周四參觀(guān)華城的半導體研發(fā)中心,是三星電子披露的李在镕在2020年的首個(gè)官方行程,三星的發(fā)言人表示,李在镕再次參觀(guān)華城的報道體研發(fā)中心,凸顯了三星電子成為頂級非存儲芯片制造商的決心。
亞馬遜、Facebook等沒(méi)有芯片制造能力的科技巨頭們都已開(kāi)始自研AI芯片和數據中心芯片,以更好的適應自身業(yè)務(wù)的發(fā)展,這也將導致對芯片制造需求的增加,三星已看好這一領(lǐng)域的發(fā)展,準備增加在芯片制造方面的投資,去年年底,三星電子已宣布計劃未來(lái)10年投資133萬(wàn)億韓元,折合約1147億美元,用于發(fā)展芯片制造業(yè)務(wù)。