導(dǎo)言

利用METAL MASH金屬網(wǎng)格工藝制作透明導(dǎo)電膜層，替代電容觸摸屏或其它光電產(chǎn)品導(dǎo)電膜層這個(gè)方案，最先是基于行業(yè)對稀土金屬供應(yīng)量有限這個(gè)原因，被美、日、韓光電行業(yè)的研究人員所提出來的。當(dāng)時(shí)是希望借助這個(gè)方案，能夠利用其它成本更低、儲量更豐富的金屬材料，替代成本較高、產(chǎn)能和供應(yīng)量有限的稀土金屬來制作透明導(dǎo)電產(chǎn)品，應(yīng)用在光電顯示產(chǎn)品上。雖然在目前看來，稀土也不見得跟原來預(yù)計(jì)的儲量那么小，METAL MASH金屬網(wǎng)格替代方案的加工成本，也不見得比現(xiàn)在的稀土材料加工成本低，但作為一種可操作的實(shí)用技術(shù)，METAL MASH金屬網(wǎng)格透明導(dǎo)電膜層加工工藝仍被光電行業(yè)從業(yè)人員深入研究，以期能充分利用它的優(yōu)勢，在不同的場景中，應(yīng)用在不同領(lǐng)域的產(chǎn)品上。

在目前的電容觸摸屏技術(shù)突破路徑不多的情況下，處于國際光電制造中心的中（含臺灣）、日、韓三方，都在積極進(jìn)行相關(guān)METAL MASH金屬網(wǎng)格工藝的研究與開發(fā)。其中走在比較前的有三星、LG、日本富士、TPK、界面、洋化、歐菲光等等。按照大家所認(rèn)知的METAL MASH金屬網(wǎng)格表現(xiàn)方式來講，蘋果iPhone 5以后的手機(jī)所用的In-Cell觸摸顯示屏，也是一種利用METAL MASH金屬化合物網(wǎng)格工藝，來實(shí)現(xiàn)電容觸摸功能的觸摸顯示屏?！?/p>

METAL MASH金屬網(wǎng)格分類

按材料分：

金屬合金類金屬網(wǎng)格，如銅合金、鉻合金、錫鋅合金、銀合金、金合金、鉬鋁鉬組合合金等；

金屬化合物金屬網(wǎng)格，如氧化鋅、湨化銀等；　

納米金屬材料類金屬網(wǎng)格，如納米銀絲、碳納米管、石墨烯、納米金屬氧化物等。

按圖形分：

等分矩陣形金屬網(wǎng)格；

紊亂平鋪形金屬網(wǎng)格。

等離子壓印蝕刻工藝介紹　

等離子壓印蝕刻工藝，是通過精密沖壓技術(shù)，使用微米級的模具轉(zhuǎn)移圖形到阻蝕油墨上，再用等離子蝕刻出最終的電子線路。在加工過程中，涉及到了阻蝕油墨涂覆技術(shù)、精密沖壓技術(shù)、微米級模版制造技術(shù)、等離子蝕刻技術(shù)等。

等離子壓印蝕刻加工技術(shù)具有快速、廉價(jià)的優(yōu)點(diǎn)，而且它還不需要苛刻的無塵車間，甚至不需要絕對平整的表面，具有作業(yè)方法靈活多變的特點(diǎn)。

與等離子壓印蝕刻相關(guān)的工藝技術(shù)，在一些半導(dǎo)體器件和光學(xué)器件領(lǐng)域，都有應(yīng)用，是比較通用和成熟的技術(shù)系統(tǒng)，所涉及的設(shè)備、材料，市場都有比較充分的供應(yīng)。

壓印模版制作　

目前很多半導(dǎo)體企業(yè)，都具備了納米光刻技術(shù)與制備工藝，能制作納米級的納米壓印模具。

制作納米壓印模具要先通過光學(xué)或等離子光刻得到METAL MASH的圖案模版。壓印模具材料的化學(xué)前體在模版中固化，聚合成型后從模版中脫離，便得到了所要求的模具。常常要得到的模具是PDMS，接著，PDMS模具浸在含有硫醇的試劑中，然后將浸過試劑的模具壓到鍍金襯底上，襯底可以為玻璃、硅、聚合物等多種形式。

另外，在襯底上可以先鍍上一薄層鈦層然后再鍍金，以增加粘連。硫醇與金發(fā)生反應(yīng)，形成自組裝單分子層SAM。印后有兩種工藝對其處理。一種是采用濕法刻蝕，如在氫化物溶液中，氫化物的離子促使未被SAM層覆蓋的金溶解，而由于SAM能有效地阻擋氫化物的離子，被SAM覆蓋的金被保留，從而將單分子層的圖案轉(zhuǎn)移到金上。還可以進(jìn)一步以金為掩模，對未被金覆蓋的地方進(jìn)行刻蝕，再次實(shí)現(xiàn)圖案轉(zhuǎn)移，另一種是在金膜上通過自組裝單層的硫醇分子來鏈接某些有機(jī)分子，實(shí)現(xiàn)自組裝。

而用METAL MASH金屬網(wǎng)格工藝來制作電容觸摸屏透明導(dǎo)電膜的微米壓印模板形貌是：高度5~10微米，周期也是20~50微米，寬度是1-3微米，對于納米光刻技術(shù)來說，制作起來完全沒有難度。

觸摸屏工廠所需要做的，只需把你的設(shè)計(jì)圖樣發(fā)給納米光刻加工企業(yè)，然后提出你的模版形貌特征，加工企業(yè)就可以制作出精美的阻蝕油墨蝕刻圖案壓印模版交付給你使用了。而本文所說的等離子加工工藝，本身也是借鑒復(fù)制了納米光刻技術(shù)的流程和工藝。

METAL MASH金屬網(wǎng)格工藝設(shè)計(jì)圖樣時(shí)，因?yàn)榻饘俨牧系膶?dǎo)電率比較高，形成的線路電阻可以做到較低，一般會同時(shí)把sensor圖案和外圍連接電路設(shè)計(jì)在同一層圖層，方便生產(chǎn)加工時(shí)一次性加工出來。

組成金屬網(wǎng)格的微米線路方式，一般附著力較弱的金屬層會盡量在容許寬度內(nèi)填充滿線路，做到最大的圖形面積，這個(gè)時(shí)候就需要在導(dǎo)電圖形面積、產(chǎn)品透過率、光線干涉條紋上做出平衡。

如果是附著較強(qiáng)的導(dǎo)電漿料，則可以采用能消除干涉條紋的紊亂型微米線路。但是導(dǎo)電漿料的導(dǎo)電率相對較低，為了保證足夠低的電阻，就得在圖案密度和產(chǎn)品霧度上做出平衡。

在目前METAL MASH金屬網(wǎng)格工藝設(shè)計(jì)圖樣設(shè)計(jì)中，微米線路布線方式，在光學(xué)上決定了最終產(chǎn)品的光學(xué)干涉條紋以及霧度。
（未完待續(xù)）